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                工艺原理

                Gelor®-UV紫外光触媒催化氧化净化技术是集高能高臭氧紫外光光解技术、纳米光触媒催化╲氧化技术于一体,工艺原理如下:

                利用UV紫外线光№束照射废气,裂解废气分子链结构,使有↑机或无机高分子恶臭化合物分子链,在高能紫外线光束卐照射下,降解转变成低分子化合物,如CO2、H2O等;

                利用UV紫外线光束分解◥空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合∞,进而产生臭氧】,UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3,臭氧具有强○氧化能力,对异味气体有立竿见影的清除效果;

                催化剂在受〗到紫外线光照射时生成化学活性⌒ 很强的超氧化物阴离子自由基和氢氧自由■基,攻击有机物,达到降解有机物的作用。


                光催化工艺原理图



                技术优势

                ● 能高→效去除挥发性有机物(VOC)、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物,除臭效率々高。

                ● 无需对恶臭气体进行特殊的预处理,设备工作环境温度在-30度~95度之间,湿度在30%~98%、PH值在2~13范围均可正常工作,无需添加其他物质及药剂参与处理。

                ● 设备占地面积小,运行维护操作简单,设备能耗低,(每处理1000立方米/小时,仅耗电约0.8度电能),设备风阻极低<50pa,可节约大量排风动力能耗。

                ● 适应性强,适用气体种类多,可连续和间歇运行。



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